Siliziumnitridgebundenes Siliziumkarbid
Si3N4-gebundenes feuerfestes SiC-Keramikmaterial, wird mit hochreinem SIC-Feinpulver und Siliziumpulver gemischt, nach dem Schlickergussverlauf bei 1400–1500 °C reaktionsgesintert.Während des Sinterns wird hochreiner Stickstoff in den Ofen gefüllt, dann reagiert das Silizium mit Stickstoff und erzeugt Si3N4. Das Si3N4-gebundene SiC-Material besteht also aus Siliziumnitrid (23 %) und Siliziumkarbid (75 %) als Hauptrohstoff , mit organischem Material vermischt und durch Mischen, Extrudieren oder Gießen geformt und dann nach Trocknen und Stickstoffisieren hergestellt.
Merkmale und Vorteile:
1.HHohe Temperaturtoleranz
2.Hohe Wärmeleitfähigkeit und Stoßfestigkeit
3.Hohe mechanische Festigkeit und Abriebfestigkeit
4. Hervorragende Energieeffizienz und Korrosionsbeständigkeit
Wir bieten hochwertige und präzisionsgefertigte NSiC-Keramikkomponenten, die von verarbeitet werden
1. Schlickerguss
2.Extrudieren
3. Uni-Axialpressen
4. Isostatisches Pressen
Materialdatenblatt
| >Chemische Zusammensetzung | Sic | 75 % |
| Si3N4 | ≥23 % | |
| Kostenlose Si | 0% | |
| Schüttdichte (g/cm3) | 2,70～2,80 | |
| Scheinbare Porosität (%) | 12～15 | |
| Biegefestigkeit bei 20 ℃(MPa) | 180～190 | |
| Biegefestigkeit bei 1200 ℃(MPa) | 207 | |
| Biegefestigkeit bei 1350 ℃(MPa) | 210 | |
| Druckfestigkeit bei 20 ℃(MPa) | 580 | |
| Wärmeleitfähigkeit bei 1200 ℃ (w/mk) | 19.6 | |
| Wärmeausdehnungskoeffizient bei 1200 ℃(x 10-6/C) | 4,70 | |
| Wärmeschockbeständigkeit | Exzellent | |
| Max.Temperatur (℃) | 1600 | |
WeiTai Energy Technology Co., Ltd. ist ein führender Anbieter von fortschrittlicher Halbleiterkeramik und der einzige Hersteller in China, der gleichzeitig hochreine Siliziumkarbidkeramik (insbesondere rekristallisiertes SiC) und CVD-SiC-Beschichtung anbieten kann.Darüber hinaus engagiert sich unser Unternehmen auch in Keramikbereichen wie Aluminiumoxid, Aluminiumnitrid, Zirkonoxid und Siliziumnitrid usw.
Zu unseren Hauptprodukten gehören: Siliziumkarbid-Ätzscheiben, Siliziumkarbid-Bootsschlepper, Siliziumkarbid-Wafer-Boote (Photovoltaik und Halbleiter), Siliziumkarbid-Ofenröhren, Siliziumkarbid-Auslegerpaddel, Siliziumkarbid-Spannfutter, Siliziumkarbid-Träger sowie die CVD-SiC-Beschichtung und TaC Beschichtung.Die Produkte werden hauptsächlich in der Halbleiter- und Photovoltaikindustrie verwendet, wie z. B. Geräte für Kristallwachstum, Epitaxie, Ätzung, Verpackung, Beschichtung und Diffusionsöfen usw.
Unser Unternehmen verfügt über die komplette Produktionsausrüstung wie Formen, Sintern, Verarbeitung, Beschichtungsausrüstung usw., die alle notwendigen Verbindungen der Produktproduktion vervollständigen und eine bessere Kontrollierbarkeit der Produktqualität ermöglichen kann;Der optimale Produktionsplan kann entsprechend den Anforderungen des Produkts ausgewählt werden, was zu geringeren Kosten führt und den Kunden wettbewerbsfähigere Produkte bietet;Wir können die Produktion basierend auf den Lieferanforderungen der Bestellung und in Verbindung mit Online-Auftragsverwaltungssystemen flexibel und effizient planen und so unseren Kunden schnellere und garantiertere Lieferzeiten bieten.
