SiC-beschichteter Epitaxie-Reaktorzylinder

Kurze Beschreibung:

Semicera bietet ein umfassendes Sortiment an Suszeptoren und Graphitkomponenten für verschiedene Epitaxiereaktoren.

Durch strategische Partnerschaften mit branchenführenden OEMs, umfassende Materialkompetenz und fortschrittliche Fertigungskapazitäten liefert Semicera maßgeschneiderte Designs, um die spezifischen Anforderungen Ihrer Anwendung zu erfüllen.Unser Streben nach Exzellenz stellt sicher, dass Sie optimale Lösungen für Ihre Anforderungen an Epitaxiereaktoren erhalten.

 

Produktdetail

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Beschreibung

Unser Unternehmen bietetSiC-BeschichtungProzessdienstleistungen auf der Oberfläche von Graphit, Keramik und anderen Materialien durch CVD-Methode, so dass spezielle Gase, die Kohlenstoff und Silizium enthalten, bei hoher Temperatur reagieren können, um hochreine Sic-Moleküle zu erhalten, die auf der Oberfläche beschichteter Materialien abgeschieden werden können, um eine zu bildenSiC-Schutzschichtfür Epitaxie-Fass-Hypnotik.

 

sic (1)

sic (2)

Haupteigenschaften

1. Oxidationsbeständigkeit bei hohen Temperaturen:
Die Oxidationsbeständigkeit ist auch bei Temperaturen bis zu 1600 °C noch sehr gut.
2. Hohe Reinheit: hergestellt durch chemische Gasphasenabscheidung unter Hochtemperatur-Chlorierungsbedingungen.
3. Erosionsbeständigkeit: hohe Härte, kompakte Oberfläche, feine Partikel.
4. Korrosionsbeständigkeit: Säure, Alkali, Salz und organische Reagenzien.

Hauptspezifikationen der CVD-SIC-Beschichtung

SiC-CVD-Eigenschaften
Kristallstruktur FCC-β-Phase
Dichte g/cm³ 3.21
Härte Vickers-Härte 2500
Körnung μm 2~10
Chemische Reinheit % 99,99995
Wärmekapazität J·kg-1 ·K-1 640
Sublimationstemperatur 2700
Biegekraft MPa (RT 4-Punkt) 415
Elastizitätsmodul Gpa (4-Punkt-Biegung, 1300 ℃) 430
Wärmeausdehnung (CTE) 10-6K-1 4.5
Wärmeleitfähigkeit (W/mK) 300
Semicera Arbeitsplatz
Semicera Arbeitsplatz 2
Ausrüstungsmaschine
CNN-Verarbeitung, chemische Reinigung, CVD-Beschichtung
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