SiC-Epitaxie

Kurze Beschreibung:

Weitai bietet kundenspezifische Dünnschicht-SiC-Epitaxie (Siliziumkarbid) auf Substraten für die Entwicklung von Siliziumkarbid-Geräten an.Weitai ist bestrebt, qualitativ hochwertige Produkte zu wettbewerbsfähigen Preisen anzubieten, und wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu sein.


Produktdetail

Produkt Tags

SiC-Epitaxie (2)(1)

Produktbeschreibung

4h-n 4 Zoll 6 Zoll Durchmesser 100 mm Sic Seed Wafer 1 mm Dicke für Barrenwachstum

Kundenspezifische Größe/2 Zoll/3 Zoll/4 Zoll/6 Zoll 6H-N/4H-SEMI/ 4H-N SIC-Ingots/Hochreine 4H-N 4 Zoll 6 Zoll Durchmesser 150 mm Siliziumkarbid-Einkristallsubstrate (sic)/ Kundenspezifische, zugeschnittene Sic-Wafer, Produktion 4 Zoll Güteklasse 4H-N 1,5 mm SIC-Wafer für Impfkristalle

Über Siliziumkarbid (SiC)-Kristall

Siliziumkarbid (SiC), auch Carborundum genannt, ist ein Halbleiter, der Silizium und Kohlenstoff mit der chemischen Formel SiC enthält.SiC wird in Halbleiterelektronikgeräten verwendet, die bei hohen Temperaturen oder hohen Spannungen oder beidem betrieben werden. SiC ist auch eine der wichtigen LED-Komponenten, es ist ein beliebtes Substrat für den Anbau von GaN-Geräten und dient auch als Wärmeverteiler in Hochfrequenzgeräten. Power-LEDs.

Beschreibung

Eigentum

4H-SiC, Einkristall

6H-SiC, Einkristall

Gitterparameter

a=3,076 Å c=10,053 Å

a=3,073 Å c=15,117 Å

Stapelreihenfolge

ABCB

ABCACB

Mohs-Härte

≈9,2

≈9,2

Dichte

3,21 g/cm3

3,21 g/cm3

Therm.Expansionskoeffizient

4-5×10-6/K

4-5×10-6/K

Brechungsindex bei 750 nm

nein = 2,61
ne = 2,66

nein = 2,60
ne = 2,65

Dielektrizitätskonstante

c~9,66

c~9,66

Wärmeleitfähigkeit (N-Typ, 0,02 Ohm.cm)

a~4,2 W/cm·K@298K
ca. 3,7 W/cm·K bei 298 K

 

Wärmeleitfähigkeit (halbisolierend)

a~4,9 W/cm·K@298K
ca. 3,9 W/cm·K bei 298 K

a~4,6 W/cm·K@298K
ca. 3,2 W/cm·K bei 298 K

Bandabstand

3,23 eV

3,02 eV

Zusammenbruch des elektrischen Feldes

3-5×106V/cm

3-5×106V/cm

Sättigungsdriftgeschwindigkeit

2,0×105m/s

2,0×105m/s

SiC-Wafer

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