Der CVD-SiC-Ätzring von Semicera, eine erstklassige Lösung für fortschrittliche Halbleiterfertigungsprozesse. Unsere Ätzringe sind fachmännisch gefertigt, um die Leistung von CVD-SiC-Duschköpfen zu verbessern und optimale Ergebnisse während des Diffusionsprozesses zu gewährleisten. Mit ihrer robusten Konstruktion und Präzisionstechnik bieten diese Ringe die Zuverlässigkeit und Effizienz, die für hochwertige Trockenätzanwendungen erforderlich sind.
Bei Semicera verstehen wir die entscheidende Rolle, die Siliziumkarbid in der Halbleitertechnologie spielt. Unsere CVD-SiC-Ätzringe sind speziell für verschiedene Prozesse konzipiert, darunter MOCVD und andere Ätztechniken. Die feste SiC-Zusammensetzung garantiert eine hervorragende thermische Stabilität und chemische Beständigkeit und macht unsere Ätzringe zur bevorzugten Wahl für die anspruchsvollsten Umgebungen.
Unser Engagement für Innovation und Qualität stellt sicher, dass jeder CVD-SiC-Ätzring den höchsten Industriestandards entspricht. Wählen Sie Semicera für Ihre Ätzlösungen und erleben Sie beispiellose Leistung und Haltbarkeit, maßgeschneidert auf Ihre individuellen Bedürfnisse. Mit unserer Expertise in SiC-Duschköpfen und Ätztechnologie unterstützen wir Ihren Erfolg im Halbleiterbereich.
Im Halbleiterbereich ist die Stabilität jeder Komponente für den gesamten Prozess sehr wichtig. In einer Hochtemperaturumgebung oxidiert Graphit jedoch leicht und geht verloren, und eine SiC-Beschichtung kann einen stabilen Schutz für Graphitteile bieten. ImSemiceraTeam verfügen wir über eine eigene Graphitreinigungsverarbeitungsanlage, die die Reinheit von Graphit auf unter 5 ppm kontrollieren kann. Die Reinheit der Siliziumkarbidbeschichtung liegt ebenfalls unter 5 ppm.
✓Top-Qualität auf dem chinesischen Markt
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