SemicerasWaferträger aus Siliziumkarbid (SiC).ist mit fortschrittlichem LSI+ ausgestattetCVD-Technologie um den anspruchsvollen Anforderungen der modernen Halbleiterfertigung gerecht zu werden. Unsere SiC-Waferträger sind bekannt für ihre hohe Reinheit, außergewöhnliche Haltbarkeit und wiederholte Verwendung ohne Nadellöcher. Diese Träger gewährleisten eine optimale Leistung in verschiedenen Halbleiterprozessen.
Hauptmerkmale
- -Hohe Reinheit: Hergestellt aus hochreinem Siliziumkarbid, das minimale Kontamination und hervorragende Leistung gewährleistet.
- -Haltbarkeit: Die robuste Konstruktion ermöglicht eine wiederholte Verwendung ohne Beeinträchtigung.
- -Anpassbar: Kann auf spezifische Kundenanforderungen zugeschnitten werden und optimiert die Leistung auf der Grundlage individueller Betriebsbedingungen.
- -Fortschrittliche Technologie: Nutzt LSI+CVD-Technologie für gleichbleibende Qualität und Zuverlässigkeit.
- -Keine Nadellöcher: Entwickelt, um Porosität zu beseitigen und einen reibungslosen und effizienten Prozess bei langfristiger Verwendung zu gewährleisten.
Anwendungen
Ideal für den Einsatz in Halbleiterfertigungsprozessen, insbesondere in Umgebungen, die eine hohe thermische Stabilität sowie Verschleiß- und Korrosionsbeständigkeit erfordern. Die SiC-Waferträger von Semicera eignen sich für verschiedene Anwendungen, darunter:
- -Halbleiterfertigung: Verbessert die Effizienz und Zuverlässigkeit der Waferverarbeitung.
- -LED-Produktion: Gewährleistet eine gleichmäßige Erwärmung und Beschichtung während der LED-Chip-Herstellung.
- -Leistungselektronik: Unterstützt leistungsstarke und langlebige leistungselektronische Geräte.
Warum Semicera wählen?
Semicera ist bestrebt, qualitativ hochwertige Siliziumkarbidlösungen für die Halbleiterindustrie bereitzustellen. Unsere SiC-Wafer-Träger sind so konzipiert, dass sie höchste Ansprüche an Leistung und Zuverlässigkeit erfüllen. Vertrauen Sie Semicera bei all Ihren Halbleiteranforderungen und erleben Sie den Unterschied in Qualität und Service.
