SiC-beschichteter Suszeptor für Deep UV-LED

Kurzbeschreibung:

Semicera Energy Technology Co., Ltd. ist ein führender Anbieter von fortschrittlicher Halbleiterkeramik. Zu unseren Hauptprodukten gehören: geätzte Siliziumkarbidscheiben, Siliziumkarbid-Bootsanhänger, Siliziumkarbid-Waferschiffe (PV und Halbleiter), Siliziumkarbid-Ofenrohre, Siliziumkarbid-Auslegerpaddel, Siliziumkarbid-Spannfutter, Siliziumkarbid-Träger sowie CVD-SiC-Beschichtungen und TaC-Beschichtungen.

Die Produkte werden hauptsächlich in der Halbleiter- und Photovoltaikindustrie eingesetzt, beispielsweise in der Kristallzüchtung, Epitaxie, Ätzung, Verpackung, Beschichtung und Diffusionsofenausrüstung.

 

 

 


Produktdetails

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Beschreibung

Unser Unternehmen bietet SiC-Beschichtungsverfahren mittels CVD-Methode auf der Oberfläche von Graphit, Keramik und anderen Materialien an, sodass spezielle Gase, die Kohlenstoff und Silizium enthalten, bei hoher Temperatur reagieren, um hochreine SiC-Moleküle zu erhalten, die sich auf der Oberfläche der beschichteten Materialien ablagern. Bildung einer SIC-Schutzschicht.

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Hauptmerkmale

1. Oxidationsbeständigkeit bei hohen Temperaturen: Die Oxidationsbeständigkeit ist auch bei Temperaturen von bis zu 1600 °C immer noch sehr gut.
2. Hohe Reinheit: hergestellt durch chemische Gasphasenabscheidung unter Hochtemperatur-Chlorierungsbedingungen.
3. Erosionsbeständigkeit: hohe Härte, kompakte Oberfläche, feine Partikel.
4. Korrosionsbeständigkeit: Säure, Alkali, Salz und organische Reagenzien.

Hauptspezifikationen der CVD-SIC-Beschichtung

SiC-CVD-Eigenschaften
Kristallstruktur FCC-β-Phase
Dichte g/cm³ 3.21
Härte Vickershärte 2500
Körnung μm 2~10
Chemische Reinheit % 99,99995
Wärmekapazität J·kg-1 ·K-1 640
Sublimationstemperatur 2700
Biegekraft MPa (RT 4-Punkt) 415
Elastizitätsmodul Gpa (4-Punkt-Biegung, 1300 ℃) 430
Wärmeausdehnung (CTE) 10-6K-1 4.5
Wärmeleitfähigkeit (W/mK) 300
Semicera Arbeitsplatz
Semicera Arbeitsplatz 2
Ausrüstungsmaschine
CNN-Verarbeitung, chemische Reinigung, CVD-Beschichtung
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