SiC-beschichteter Tief-UV-LED-Suszeptor

Kurzbeschreibung:

Der SiC-beschichtete Deep-UV-LED-Suszeptor ist eine entscheidende Komponente in MOCVD-Prozessen (Metal-Organic Chemical Vapour Deposition) und wurde speziell für die Unterstützung eines effizienten und stabilen Epitaxieschichtwachstums von Deep-UV-LEDs entwickelt. Bei Semicera sind wir ein führender Hersteller und Lieferant von SiC-beschichteten Suszeptoren und bieten Produkte an, die den höchsten Industriestandards entsprechen. Dank jahrelanger Erfahrung und langfristigen Partnerschaften mit führenden Herstellern von LED-Epitaxie genießen unsere Suszeptorlösungen weltweit Vertrauen.


Produktdetails

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SiC-beschichteter Tief-UV-LED-Suszeptor – Fortschrittliche MOCVD-Komponente für Hochleistungsepitaxie

Überblick:Der SiC-beschichtete Deep-UV-LED-Suszeptor ist eine entscheidende Komponente in MOCVD-Prozessen (Metal-Organic Chemical Vapour Deposition) und wurde speziell für die Unterstützung eines effizienten und stabilen Epitaxieschichtwachstums von Deep-UV-LEDs entwickelt. Bei Semicera sind wir ein führender Hersteller und Lieferant von SiC-beschichteten Suszeptoren und bieten Produkte an, die den höchsten Industriestandards entsprechen. Dank jahrelanger Erfahrung und langfristigen Partnerschaften mit führenden Herstellern von LED-Epitaxie genießen unsere Suszeptorlösungen weltweit Vertrauen.

 

Hauptmerkmale und Vorteile:

Optimiert für Deep-UV-LED-Epitaxie:Speziell entwickelt für das leistungsstarke epitaktische Wachstum von LEDs im tiefen UV-Bereich, einschließlich solcher im Wellenlängenbereich <260 nm (verwendet bei der UV-C-Desinfektion, Sterilisation und anderen Anwendungen).

Material & Beschichtung:Hergestellt aus hochwertigem SGL-Graphit, beschichtet mitCVD-SiC, was eine hervorragende Beständigkeit gegen NH3, HCl und Umgebungen mit hohen Temperaturen gewährleistet. Diese langlebige Beschichtung verbessert die Leistung und Langlebigkeit.

Präzises Wärmemanagement:Fortschrittliche Verarbeitungstechniken sorgen für eine gleichmäßige Wärmeverteilung, verhindern Temperaturgradienten, die das Wachstum der Epitaxieschicht beeinträchtigen könnten, und verbessern die Gleichmäßigkeit und Materialqualität.

▪ Wärmeausdehnungskompatibilität:Entspricht dem Wärmeausdehnungskoeffizienten von AlN/GaN-Epitaxiewafern und minimiert so das Risiko einer Waferverformung oder -rissbildung während des ProzessesMOCVDVerfahren.

 

Anpassbar an führende MOCVD-Geräte: Kompatibel mit führenden MOCVD-Systemen wie Veeco K465i, EPIK 700 und Aixtron Crius, unterstützt Wafergrößen von 2 bis 8 Zoll und bietet maßgeschneiderte Lösungen für Schlitzdesign, Prozesstemperatur und andere Parameter.

 

Anwendungen:

▪ Herstellung von LEDs mit tiefem UV-Licht:Ideal für die Epitaxie von Deep-UV-LEDs, die in Anwendungen wie der UV-C-Desinfektion und -Sterilisation eingesetzt werden.

▪ Nitrid-Halbleiter-Epitaxie:Geeignet für epitaktische GaN- und AlN-Prozesse bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen.

▪ Forschung & Entwicklung:Unterstützung fortschrittlicher Epitaxieexperimente für Universitäten und Forschungseinrichtungen mit Schwerpunkt auf Materialien im tiefen UV-Bereich und neuen Technologien.

 

Warum Semicera wählen?

▪ Bewährte Qualität:UnserSiC-beschichtetTief-UV-LED-Suszeptoren werden einer strengen Überprüfung unterzogen, um sicherzustellen, dass sie der Leistung internationaler Spitzenhersteller entsprechen.

▪ Maßgeschneiderte Lösungen:Wir bieten maßgeschneiderte Produkte an, die auf die individuellen Bedürfnisse unserer Kunden zugeschnitten sind und optimale Leistung und langfristige Zuverlässigkeit gewährleisten.

▪ Globale Expertise:Als vertrauenswürdiger Partner vielerLED-EpitaxieAls Hersteller von Herstellern auf der ganzen Welt bringt Semicera modernste Technologie und einen großen Erfahrungsschatz in jedes Projekt ein.

 

Kontaktieren Sie uns noch heute! Entdecken Sie, wie Semicera Ihre MOCVD-Prozesse mit hochwertigen, zuverlässigen SiC-beschichteten Tief-UV-LED-Suszeptoren unterstützen kann. Kontaktieren Sie uns für weitere Informationen oder um ein Angebot anzufordern.

 

 

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