DerQuarz-Reinigungstankvon Semicera ist ein unverzichtbares Werkzeug zur Erzielung optimaler Sauberkeit in der Halbleiterfertigung. Dieser Tank wurde speziell für die Nassverarbeitung von Wafern entwickelt und gewährleistet eine effektiveWaferReinigung durch fortschrittliche Techniken, die Verunreinigungen minimieren und den Ertrag steigern. Unter Verwendung modernster Materialien ist der Semicera-Tank für überlegene Leistung in verschiedenen Bereichen konzipiertWaferReinigungsmethoden.
Hergestellt aushochreiner QuarzDer Quarz-Reinigungstank bietet eine hervorragende Beständigkeit gegenüber aggressiven Chemikalien und hohen Temperaturen. Diese Haltbarkeit ist im Halbleiterreinigungsprozess von entscheidender Bedeutung, bei dem sowohl nasschemische Ätzverfahren als auch Trockenätzverfahren zum Einsatz kommen. Mit seinem robusten Design eignet sich der Tank für verschiedene Anwendungen, einschließlich Nassätzen und als effizientes Quarzbad für umfassende Reinigungsroutinen.
Durch die Integration des Quarz-Reinigungstanks in Ihre Produktionslinie können Sie die Wafer-Reinigungsprozesse rationalisieren und sicherstellen, dass jederWaferist gründlich gereinigt und bereit für die nachfolgenden Fertigungsschritte. Dieser zuverlässige Tank trägt zur Reduzierung der Partikelverunreinigung bei und unterstützt eine höhere Effizienz bei Nassätzvorgängen, was letztendlich zu einer verbesserten Produktqualität führt.
Mit dem Quarz-Reinigungstank von Semicera können Sie sich auf hohe Leistung und Langlebigkeit verlassen. Seine Fähigkeit, den Strapazen der Wafer-Nassverarbeitung standzuhalten, macht es zu einem wertvollen Aktivposten in jeder Halbleiteranlage und sorgt für Sicherheit durch verbesserte Haltbarkeit und Zuverlässigkeit in anspruchsvollen Umgebungen. Wählen Sie Semicera für Ihre Reinigungslösungen und erleben Sie beispiellose Qualität in Ihren Halbleiterfertigungsprozessen.
Je nach Bedarf können wir verschiedene Formen bearbeiten, von großen Einzel- bis hin zu DoppelformenQuarzBäder zu kleinQuarzTiegel. Zusätzlich zuQuarzmaterialienAuch Behälter aus Hartglas können wir verarbeiten.
·Wird für Wafer-Nassreinigungsprozesse verwendet.
·Einzelschlitz/Doppelschlitz (Überlaufschlitz).
·Kann bis zu 12 Zoll herstellen.
