Galliumnitrid-Substrate|GaN-Wafer

Kurze Beschreibung:

Galliumnitrid (GaN) gehört wie Siliziumkarbid (SiC)-Materialien zur dritten Generation von Halbleitermaterialien mit großer Bandlückenbreite, großer Bandlückenbreite, hoher Wärmeleitfähigkeit, hoher Elektronensättigungsmigrationsrate und hervorragendem elektrischen Durchbruchfeld Eigenschaften.GaN-Geräte bieten ein breites Anwendungsspektrum in Hochfrequenz-, Hochgeschwindigkeits- und Leistungsbedarfsbereichen wie energiesparende LED-Beleuchtung, Laserprojektionsanzeige, neue Energiefahrzeuge, Smart Grid und 5G-Kommunikation.


Produktdetail

Produkt Tags

GaN-Wafer

Zu den Halbleitermaterialien der dritten Generation gehören hauptsächlich SiC, GaN, Diamant usw., da ihre Bandlückenbreite (Eg) größer oder gleich 2,3 Elektronenvolt (eV) ist, was auch als Halbleitermaterialien mit großer Bandlücke bekannt ist.Im Vergleich zu den Halbleitermaterialien der ersten und zweiten Generation weisen die Halbleitermaterialien der dritten Generation die Vorteile einer hohen Wärmeleitfähigkeit, eines hohen elektrischen Durchbruchfelds, einer hohen Sättigungselektronenmigrationsrate und einer hohen Bindungsenergie auf, wodurch die neuen Anforderungen der modernen elektronischen Technologie an hohe Anforderungen erfüllt werden können Temperatur, hohe Leistung, hoher Druck, hohe Frequenz und Strahlungsbeständigkeit sowie andere raue Bedingungen.Es hat wichtige Anwendungsaussichten in den Bereichen Landesverteidigung, Luftfahrt, Luft- und Raumfahrt, Ölexploration, optische Speicherung usw. und kann den Energieverlust in vielen strategischen Branchen wie Breitbandkommunikation, Solarenergie, Automobilherstellung usw. um mehr als 50 % reduzieren. Halbleiterbeleuchtung und intelligente Netze und können das Gerätevolumen um mehr als 75 % reduzieren, was für die Entwicklung der menschlichen Wissenschaft und Technologie von entscheidender Bedeutung ist.

 

Artikelbeschreibung

GaN-FS-CU-C50

GaN-FS-CN-C50

GaN-FS-C-SI-C50

Durchmesser
晶圆直径

50,8 ± 1 mm

Dicke厚度

350 ± 25 μm

Orientierung
晶向

C-Ebene (0001) Abweichungswinkel zur M-Achse 0,35 ± 0,15°

Erstklassige Wohnung
主定位边

(1-100) 0 ± 0,5°, 16 ± 1 mm

Zweitwohnung
次定位边

(11-20) 0 ± 3°, 8 ± 1 mm

Leitfähigkeit
导电性

N-Typ

N-Typ

Halbisolierend

Widerstand (300 K)
电阻率

< 0,1 Ω·cm

< 0,05 Ω·cm

> 106 Ω·cm

TTV
平整度

≤ 15 μm

BOGEN
弯曲度

≤ 20 μm

Ga-Oberflächenrauheit
Ga面粗糙度

< 0,2 nm (poliert);

oder < 0,3 nm (poliert und Oberflächenbehandlung für Epitaxie)

N Oberflächenrauheit
N面粗糙度

0,5 ~ 1,5 μm

Option: 1~3 nm (fein geschliffen);< 0,2 nm (poliert)

Versetzungsdichte
位错密度

Von 1 x 105 bis 3 x 106 cm-2 (berechnet nach CL)*

Makrofehlerdichte
缺陷密度

< 2 cm-2

Nutzfläche
有效面积

> 90 % (Ausschluss von Kanten- und Makrofehlern)

Kann je nach Kundenwunsch angepasst werden, unterschiedliche Struktur von Silizium-, Saphir- und SiC-basierter GaN-Epitaxiefolie.

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