SemicerasCVD-SiC-Duschkopfist darauf ausgelegt, die zu optimierenCVD-SiCVerfahren. Der Kopf besteht aus fortschrittlichem Spezialgraphitmaterial, das über eine hervorragende Wärmeleitfähigkeit und chemische Stabilität verfügt und eine zuverlässige Leistung unter extremen Arbeitsbedingungen gewährleistet. Durch effizientes Sprühdesign kann der CVD-SiC-Duschkopf eine gleichmäßige Gasverteilung erreichen und die Qualität der SiC-Filmabscheidung auf dem Wafer sicherstellen.
BenutzenTAC-BeschichtungTechnologie verbessert der CVD-SiC-Duschkopf von Semicera die Verschleißfestigkeit und Lebensdauer und stellt sicher, dass die Ausrüstung auch im Langzeitbetrieb effizient bleibt. Sein optimiertes Design reduziert nicht nur die Wartungskosten, sondern verbessert auch die Produktionseffizienz, sodass Kunden höhere Erträge im Halbleiterfertigungsprozess erzielen können.
Darüber hinaus SemiceraCVD-SiC-Duschkopfist mit einer Vielzahl von CVD-Systemen kompatibel und kann flexibel in verschiedenen Produktionsumgebungen eingesetzt werden. Ob im F&E-Stadium oder in der Großserienfertigung, dieDüsekann eine stabile Leistung bieten und Kunden dabei helfen, sich im Wettbewerbsmarkt abzuheben.
Wenn Sie sich für den CVD-SiC-Duschkopf von Semicera entscheiden, erhalten Sie hervorragenden technischen Support und hochwertige Produkte, die Ihnen dabei helfen, einen effizienteren Produktionsprozess und eine hochwertige SiC-Filmausgabe zu erreichen. Semicera ist stets bestrebt, die Entwicklung voranzutreibenofder Halbleiterindustrie und bieten Kunden die besten Lösungen und Dienstleistungen.
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