PSS-Verarbeitungsträger für die Halbleiter-Wafer-Übertragung

Kurzbeschreibung:

Der PSS-Verarbeitungsträger von Semicera für die Übertragung von Halbleiterwafern ist für die effiziente Handhabung und Übertragung von Halbleiterwafern während der Herstellungsprozesse konzipiert. Dieser aus hochwertigen Materialien gefertigte Träger gewährleistet eine präzise Ausrichtung, minimale Kontamination und einen reibungslosen Wafertransport. Die PSS-Träger von Semicera wurden für die Halbleiterindustrie entwickelt und verbessern die Prozesseffizienz, Zuverlässigkeit und Ausbeute, was sie zu einer wesentlichen Komponente bei Waferverarbeitungs- und -handhabungsanwendungen macht.


Produktdetails

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Produktbeschreibung

Unser Unternehmen bietet SiC-Beschichtungsverfahren mittels CVD-Methode auf der Oberfläche von Graphit, Keramik und anderen Materialien an, sodass spezielle Gase, die Kohlenstoff und Silizium enthalten, bei hoher Temperatur reagieren, um hochreine SiC-Moleküle zu erhalten, Moleküle, die auf der Oberfläche der beschichteten Materialien abgeschieden werden. Bildung einer SIC-Schutzschicht.

Hauptmerkmale:

1. Oxidationsbeständigkeit bei hohen Temperaturen:

Die Oxidationsbeständigkeit ist auch bei Temperaturen bis zu 1600 °C noch sehr gut.

2. Hohe Reinheit: hergestellt durch chemische Gasphasenabscheidung unter Hochtemperatur-Chlorierungsbedingungen.

3. Erosionsbeständigkeit: hohe Härte, kompakte Oberfläche, feine Partikel.

4. Korrosionsbeständigkeit: Säure, Alkali, Salz und organische Reagenzien.

Hauptspezifikationen der CVD-SIC-Beschichtung

SiC-CVD-Eigenschaften

Kristallstruktur

FCC-β-Phase

Dichte

g/cm³

3.21

Härte

Vickershärte

2500

Körnung

μm

2~10

Chemische Reinheit

%

99,99995

Wärmekapazität

J·kg-1 ·K-1

640

Sublimationstemperatur

2700

Biegekraft

MPa (RT 4-Punkt)

415

Elastizitätsmodul

Gpa (4-Punkt-Biegung, 1300 ℃)

430

Wärmeausdehnung (CTE)

10-6K-1

4.5

Wärmeleitfähigkeit

(W/mK)

300

Semicera Arbeitsplatz
Semicera Arbeitsplatz 2
Ausrüstungsmaschine
CNN-Verarbeitung, chemische Reinigung, CVD-Beschichtung
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