Semicera hat das Innovative auf den Markt gebrachtSiC-Duschkopf, das moderne Halbleiterfertigungsprozesse zuverlässig unterstützt. Seine einzigartige Siliziumkarbid-Beschichtung macht den Duschkopf extrem langlebig bei hohen Temperaturen und korrosiven Umgebungen und sorgt für eine gleichmäßige Materialabscheidung im CVD-Prozess.
Bei der Verarbeitung von hochreinem Quarz undWaffeln, das Design derSiC-Duschkopfkann die Abscheidungseffizienz effektiv verbessern und Fehlerraten reduzieren. Dadurch wird nicht nur der Produktionsprozess optimiert, sondern auch die Qualität des Endprodukts verbessert, was es zu einer idealen Wahl für die Halbleiterindustrie macht.
Darüber hinaus ist der Duschkopf kompatibel mitTAC-BeschichtungTechnologie und erweitert damit das Anwendungsspektrum weiter. Das Forschungs- und Entwicklungsteam von Semicera setzt sich für kontinuierliche Innovation ein, um die Technologieführerschaft und Wettbewerbsfähigkeit des SiC-Duschkopfs auf dem Markt sicherzustellen.
Die Wahl liegt bei SemiceraSiC-Duschkopferhalten Sie eine effiziente und zuverlässige Lösung, die Ihnen hilft, den besten Abscheidungseffekt im CVD-Prozess zu erzielen. Semicera besteht stets darauf, seinen Kunden hochwertige Halbleiterprodukte anzubieten, um die kontinuierliche Entwicklung und Innovation der Branche zu fördern.
✓Top-Qualität auf dem chinesischen Markt
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