Der Solid SiC Focus Ring von Semicera ist eine hochmoderne Komponente, die den Anforderungen der fortschrittlichen Halbleiterfertigung gerecht wird. Hergestellt aus hochreinemSiliziumkarbid (SiC)Dieser Fokusring ist ideal für eine Vielzahl von Anwendungen in der Halbleiterindustrie, insbesondere inCVD-SiC-Prozesse, Plasmaätzen undICPRIE (Induktiv gekoppeltes Plasma-reaktives Ionenätzen). Es ist bekannt für seine außergewöhnliche Verschleißfestigkeit, hohe thermische Stabilität und Reinheit und gewährleistet eine dauerhafte Leistung in Umgebungen mit hoher Belastung.
Im HalbleiterWaferBei der Verarbeitung sind solide SiC-Fokusringe von entscheidender Bedeutung für die Aufrechterhaltung einer präzisen Ätzung bei Trockenätz- und Waferätzanwendungen. Der SiC-Fokusring hilft bei der Fokussierung des Plasmas bei Prozessen wie dem Betrieb von Plasmaätzmaschinen und ist daher für das Ätzen von Siliziumwafern unverzichtbar. Das feste SiC-Material bietet eine beispiellose Erosionsbeständigkeit, gewährleistet die Langlebigkeit Ihrer Ausrüstung und minimiert Ausfallzeiten, was für die Aufrechterhaltung eines hohen Durchsatzes in der Halbleiterfertigung unerlässlich ist.
Der Solid SiC Focus Ring von Semicera ist so konstruiert, dass er extremen Temperaturen und aggressiven Chemikalien standhält, die in der Halbleiterindustrie häufig vorkommen. Es wurde speziell für den Einsatz bei hochpräzisen Aufgaben entwickelt, zCVD-SiC-Beschichtungen, wo Reinheit und Haltbarkeit im Vordergrund stehen. Mit seiner hervorragenden Beständigkeit gegen Thermoschocks gewährleistet dieses Produkt eine konstante und stabile Leistung unter härtesten Bedingungen, einschließlich der Einwirkung hoher Temperaturen während des BetriebsWaferÄtzverfahren.
Bei Halbleiteranwendungen, bei denen es auf Präzision und Zuverlässigkeit ankommt, spielt der Solid SiC Focus Ring eine entscheidende Rolle bei der Verbesserung der Gesamteffizienz von Ätzprozessen. Sein robustes, leistungsstarkes Design macht es zur perfekten Wahl für Branchen, die hochreine Komponenten benötigen, die unter extremen Bedingungen funktionieren. Ob verwendet inCVD-SiC-RingAnwendungen oder als Teil des Plasmaätzprozesses trägt der Solid SiC Focus Ring von Semicera dazu bei, die Leistung Ihrer Ausrüstung zu optimieren und bietet die Langlebigkeit und Zuverlässigkeit, die Ihre Produktionsprozesse erfordern.
Hauptmerkmale:
• Hervorragende Verschleißfestigkeit und hohe thermische Stabilität
• Hochreines, festes SiC-Material für längere Lebensdauer
• Ideal für Plasmaätz-, ICP-RIE- und Trockenätzanwendungen
• Perfekt zum Ätzen von Wafern, insbesondere in CVD-SiC-Prozessen
• Zuverlässige Leistung in extremen Umgebungen und hohen Temperaturen
• Gewährleistet Präzision und Effizienz beim Ätzen von Siliziumwafern
Anwendungen:
• CVD-SiC-Prozesse in der Halbleiterfertigung
• Plasmaätz- und ICP-RIE-Systeme
• Trockenätz- und Waferätzprozesse
• Ätzen und Abscheiden in Plasmaätzmaschinen
• Präzisionskomponenten für Waferringe und CVD-SiC-Ringe
Mikroskopische Morphologie der CVD-SiC-Oberfläche
Mikroskopische Morphologie des CVD-SiC-Querschnitts
