SiC-Träger für die schnelle RTP/RTA-Wärmebehandlung

Kurzbeschreibung:

Siliziumkarbid ist eine neue Art von Keramik mit hoher Kostenleistung und hervorragenden Materialeigenschaften. Aufgrund seiner Eigenschaften wie hoher Festigkeit und Härte, hoher Temperaturbeständigkeit, hervorragender Wärmeleitfähigkeit und chemischer Korrosionsbeständigkeit kann Siliziumkarbid nahezu allen chemischen Medien standhalten. Daher wird SiC häufig im Ölbergbau, in der Chemie, im Maschinenbau und im Luftraum eingesetzt, selbst die Kernenergie und das Militär stellen besondere Anforderungen an SIC. Zu den üblichen Anwendungen, die wir anbieten können, gehören Dichtungsringe für Pumpen, Ventile und Schutzpanzerungen usw.

Wir sind in der Lage, nach Ihren spezifischen Abmessungen mit guter Qualität und angemessener Lieferzeit zu entwerfen und zu fertigen.


Produktdetails

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Beschreibung

Unser Unternehmen bietet SiC-Beschichtungsverfahren mittels CVD-Methode auf der Oberfläche von Graphit, Keramik und anderen Materialien an, sodass spezielle Gase, die Kohlenstoff und Silizium enthalten, bei hoher Temperatur reagieren, um hochreine SiC-Moleküle zu erhalten, die sich auf der Oberfläche der beschichteten Materialien ablagern. Bildung einer SIC-Schutzschicht.

Hauptmerkmale

1. Oxidationsbeständigkeit bei hohen Temperaturen:
Die Oxidationsbeständigkeit ist auch bei Temperaturen bis zu 1600 °C noch sehr gut.
2. Hohe Reinheit: hergestellt durch chemische Gasphasenabscheidung unter Hochtemperatur-Chlorierungsbedingungen.
3. Erosionsbeständigkeit: hohe Härte, kompakte Oberfläche, feine Partikel.
4. Korrosionsbeständigkeit: Säure, Alkali, Salz und organische Reagenzien.

Hauptspezifikationen der CVD-SIC-Beschichtung

SiC-CVD-Eigenschaften

Kristallstruktur FCC-β-Phase
Dichte g/cm³ 3.21
Härte Vickershärte 2500
Körnung μm 2~10
Chemische Reinheit % 99,99995
Wärmekapazität J·kg-1 ·K-1 640
Sublimationstemperatur 2700
Biegekraft MPa (RT 4-Punkt) 415
Elastizitätsmodul Gpa (4-Punkt-Biegung, 1300 ℃) 430
Wärmeausdehnung (CTE) 10-6K-1 4.5
Wärmeleitfähigkeit (W/mK) 300
Semicera Arbeitsplatz
Semicera Arbeitsplatz 2
Ausrüstungsmaschine
CNN-Verarbeitung, chemische Reinigung, CVD-Beschichtung
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