Semicerafreut sich, das anbieten zu könnenPFA-Kassette, eine erstklassige Wahl für die Waferhandhabung in Umgebungen, in denen chemische Beständigkeit und Haltbarkeit von größter Bedeutung sind. Diese aus hochreinem Perfluoralkoxy (PFA) gefertigte Kassette ist so konzipiert, dass sie den anspruchsvollsten Bedingungen in der Halbleiterfertigung standhält und die Sicherheit und Integrität Ihrer Wafer gewährleistet.
Unübertroffene chemische BeständigkeitDerPFA-Kassetteist so konstruiert, dass es eine hervorragende Beständigkeit gegen eine Vielzahl von Chemikalien bietet, was es zur perfekten Wahl für Prozesse macht, bei denen aggressive Säuren, Lösungsmittel und andere aggressive Chemikalien zum Einsatz kommen. Diese robuste chemische Beständigkeit stellt sicher, dass die Kassette auch in den korrosivsten Umgebungen intakt und funktionsfähig bleibt, wodurch ihre Lebensdauer verlängert und die Notwendigkeit eines häufigen Austauschs verringert wird.
Hochreine KonstruktionSemicerasPFA-Kassettewird aus hochreinem PFA-Material hergestellt, das für die Vermeidung von Kontaminationen während der Waferverarbeitung von entscheidender Bedeutung ist. Diese hochreine Konstruktion minimiert das Risiko der Partikelbildung und chemischen Auswaschung und stellt sicher, dass Ihre Wafer vor Verunreinigungen geschützt sind, die ihre Qualität beeinträchtigen könnten.
Verbesserte Haltbarkeit und LeistungAuf Langlebigkeit ausgelegtPFA-Kassettebehält seine strukturelle Integrität auch unter extremen Temperaturen und strengen Verarbeitungsbedingungen. Unabhängig davon, ob sie hohen Temperaturen oder wiederholter Handhabung ausgesetzt ist, behält diese Kassette ihre Form und Leistung und bietet langfristige Zuverlässigkeit in anspruchsvollen Fertigungsumgebungen.
Präzisionstechnik für sicheres HandlingDerSemicera PFA-Kassettezeichnet sich durch eine präzise Konstruktion aus, die eine sichere und stabile Waferhandhabung gewährleistet. Jeder Schlitz ist sorgfältig konstruiert, um die Wafer sicher an Ort und Stelle zu halten und Bewegungen oder Verschiebungen zu verhindern, die zu Schäden führen könnten. Diese Präzisionstechnik unterstützt eine konsistente und genaue Waferplatzierung und trägt so zur Gesamtprozesseffizienz bei.
Vielseitige prozessübergreifende AnwendungDank seiner überlegenen Materialeigenschaften ist dasPFA-Kassetteist vielseitig genug, um in verschiedenen Phasen der Halbleiterfertigung eingesetzt zu werden. Es eignet sich besonders gut für Nassätzen, chemische Gasphasenabscheidung (CVD) und andere Prozesse, die raue chemische Umgebungen erfordern. Seine Anpassungsfähigkeit macht es zu einem unverzichtbaren Werkzeug zur Aufrechterhaltung der Prozessintegrität und Waferqualität.
Verpflichtung zu Qualität und InnovationBei Semicera sind wir bestrebt, Produkte bereitzustellen, die den höchsten Industriestandards entsprechen. DerPFA-Kassetteist ein Beispiel für dieses Engagement und bietet eine zuverlässige Lösung, die sich nahtlos in Ihre Fertigungsprozesse integriert. Jede Kassette wird einer strengen Qualitätskontrolle unterzogen, um sicherzustellen, dass sie unsere strengen Leistungskriterien erfüllt und die Exzellenz liefert, die Sie von Semicera erwarten.
Artikel | Produktion | Forschung | Dummy |
Kristallparameter | |||
Polytypie | 4H | ||
Fehler bei der Oberflächenausrichtung | <11-20 >4±0,15° | ||
Elektrische Parameter | |||
Dotierstoff | Stickstoff vom n-Typ | ||
Widerstand | 0,015–0,025 Ohm·cm | ||
Mechanische Parameter | |||
Durchmesser | 150,0 ± 0,2 mm | ||
Dicke | 350 ± 25 μm | ||
Primäre flache Ausrichtung | [1-100]±5° | ||
Primäre flache Länge | 47,5 ± 1,5 mm | ||
Zweitwohnung | Keiner | ||
TTV | ≤5 μm | ≤10 μm | ≤15 μm |
LTV | ≤3 μm (5 mm * 5 mm) | ≤5 μm (5 mm * 5 mm) | ≤10 μm (5 mm * 5 mm) |
Bogen | -15μm ~ 15μm | -35μm ~ 35μm | -45μm ~ 45μm |
Kette | ≤35 μm | ≤45 μm | ≤55 μm |
Rauheit der Vorderseite (Si-Fläche) (AFM) | Ra≤0,2nm (5μm*5μm) | ||
Struktur | |||
Mikrorohrdichte | <1 ea/cm2 | <10 ea/cm2 | <15 ea/cm2 |
Metallverunreinigungen | ≤5E10Atome/cm2 | NA | |
BPD | ≤1500 ea/cm2 | ≤3000 ea/cm2 | NA |
TSD | ≤500 ea/cm2 | ≤1000 ea/cm2 | NA |
Vordere Qualität | |||
Front | Si | ||
Oberflächenbeschaffenheit | Si-Face-CMP | ||
Partikel | ≤60 Stück pro Wafer (Größe ≥ 0,3 μm) | NA | |
Kratzer | ≤5ea/mm. Kumulierte Länge ≤Durchmesser | Kumulierte Länge ≤ 2 * Durchmesser | NA |
Orangenschale/Kerne/Flecken/Streifen/Risse/Verunreinigung | Keiner | NA | |
Kantensplitter/Einkerbungen/Bruch/Sechskantplatten | Keiner | ||
Polytypiebereiche | Keiner | Kumulierte Fläche ≤ 20 % | Kumulierte Fläche ≤ 30 % |
Lasermarkierung vorne | Keiner | ||
Zurück Qualität | |||
Hinterer Abschluss | C-Gesichts-CMP | ||
Kratzer | ≤5ea/mm, Gesamtlänge≤2*Durchmesser | NA | |
Mängel an der Rückseite (Kantenabsplitterungen/Einkerbungen) | Keiner | ||
Rückenrauheit | Ra≤0,2nm (5μm*5μm) | ||
Lasermarkierung auf der Rückseite | 1 mm (ab Oberkante) | ||
Rand | |||
Rand | Fase | ||
Verpackung | |||
Verpackung | Epi-ready mit Vakuumverpackung Verpackung für Multi-Wafer-Kassetten | ||
*Hinweise: „NA“ bedeutet keine Anfrage. Nicht erwähnte Artikel beziehen sich möglicherweise auf SEMI-STD. |