Isostatisches PECVD-Graphitboot

Kurzbeschreibung:

Das isostatische PECVD-Graphitboot wird häufig in verschiedenen Bereichen der Halbleiterfertigung eingesetzt, beispielsweise bei der Abscheidung von Polysiliziumfilmen, Oxidfilmen, Nitridfilmen usw. Seine hervorragende Leistung macht es zu einem idealen Waferträger im PECVD-Prozess.


Produktdetails

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Das isostatische PECVD-Graphitschiffchen von SEMICERA ist ein hochreines Graphitprodukt mit hoher Dichte, das für die Waferunterstützung im PECVD-Verfahren (plasmagestützte chemische Gasphasenabscheidung) entwickelt wurde. SEMICERA verwendet fortschrittliche isostatische Presstechnologie, um sicherzustellen, dass das Graphitboot eine ausgezeichnete Hochtemperaturbeständigkeit, Korrosionsbeständigkeit, Dimensionsstabilität und gute Wärmeleitfähigkeit aufweist, was ein unverzichtbares Verbrauchsmaterial im Halbleiterherstellungsprozess ist.

 

Das isostatische PECVD-Graphitboot von SEMICERA bietet folgende Vorteile:

▪ Hohe Reinheit: Das Graphitmaterial ist von hoher Reinheit und geringem Verunreinigungsgehalt, um eine Kontamination der Waferoberfläche zu vermeiden.

▪ Hohe Dichte: Hohe Dichte, hohe mechanische Festigkeit, hält hohen Temperaturen und Hochvakuumumgebungen stand.

▪ Gute Dimensionsstabilität: Geringe Dimensionsänderung bei hoher Temperatur zur Gewährleistung der Prozessstabilität.

▪ Hervorragende Wärmeleitfähigkeit: Effektive Wärmeübertragung, um eine Überhitzung des Wafers zu verhindern.

▪ Starke Korrosionsbeständigkeit: Kann der Erosion durch verschiedene korrosive Gase und Plasma widerstehen.

 

Leistungsparameter

semicera SGL R6510 Leistungsparameter
Schüttdichte (g/cm3) 1,91 1,83 1,85
Biegefestigkeit (MPa) 63 60 49
Druckfestigkeit (MPa) 135 130 103
Shore-Härte (HS) 70 64 60
Wärmeausdehnungskoeffizient (10-6/K) 85 105 130
Wärmeausdehnungskoeffizient (10-6/K) 5,85 4.2 5,0
Spezifischer Widerstand (μΩm) 11-13 13 10

 

Vorteile, wenn Sie sich für uns entscheiden:
▪ Materialauswahl: Zur Sicherstellung der Produktqualität werden hochreine Graphitmaterialien verwendet.
▪ Verarbeitungstechnologie: Durch isostatisches Pressen wird die Dichte und Gleichmäßigkeit des Produkts gewährleistet.
▪ Größenanpassung: Graphitboote unterschiedlicher Größe und Form können je nach Kundenwunsch individuell angepasst werden.
▪ Oberflächenbehandlung: Es stehen verschiedene Methoden zur Oberflächenbehandlung zur Verfügung, z. B. die Beschichtung mit Siliziumkarbid, Bornitrid usw., um unterschiedliche Prozessanforderungen zu erfüllen.

 

Isostatisches Graphitschiffchen
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Isostatisches Graphitboot -2
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