SiC-Pin-Trays für ICP-Ätzprozesse in der LED-Industrie

Kurzbeschreibung:

Die SiC-Pin-Trays von Semicera für ICP-Ätzprozesse in der LED-Industrie wurden speziell zur Verbesserung der Effizienz und Präzision bei Ätzanwendungen entwickelt. Diese aus hochwertigem Siliziumkarbid gefertigten Stiftschalen bieten eine hervorragende thermische Stabilität, chemische Beständigkeit und mechanische Festigkeit. Die SiC-Stiftschalen von Semicera sind ideal für die anspruchsvollen Bedingungen des LED-Herstellungsprozesses und sorgen für eine gleichmäßige Ätzung, minimieren Verunreinigungen, verbessern die allgemeine Prozesszuverlässigkeit und tragen so zu einer qualitativ hochwertigen LED-Produktion bei.


Produktdetails

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Produktbeschreibung

Unser Unternehmen bietet SiC-Beschichtungsverfahren mittels CVD-Methode auf der Oberfläche von Graphit, Keramik und anderen Materialien an, sodass spezielle Gase, die Kohlenstoff und Silizium enthalten, bei hoher Temperatur reagieren, um hochreine SiC-Moleküle zu erhalten, Moleküle, die auf der Oberfläche der beschichteten Materialien abgeschieden werden. Bildung einer SIC-Schutzschicht.

Hauptmerkmale:

1. Oxidationsbeständigkeit bei hohen Temperaturen:

Die Oxidationsbeständigkeit ist auch bei Temperaturen bis zu 1600 °C noch sehr gut.

2. Hohe Reinheit: hergestellt durch chemische Gasphasenabscheidung unter Hochtemperatur-Chlorierungsbedingungen.

3. Erosionsbeständigkeit: hohe Härte, kompakte Oberfläche, feine Partikel.

4. Korrosionsbeständigkeit: Säure, Alkali, Salz und organische Reagenzien.

Geätzte Siliziumkarbidscheibe (2)

Hauptspezifikationen der CVD-SIC-Beschichtung

SiC-CVD-Eigenschaften

Kristallstruktur

FCC-β-Phase

Dichte

g/cm³

3.21

Härte

Vickershärte

2500

Körnung

μm

2~10

Chemische Reinheit

%

99,99995

Wärmekapazität

J·kg-1 ·K-1

640

Sublimationstemperatur

2700

Biegekraft

MPa (RT 4-Punkt)

415

Elastizitätsmodul

Gpa (4-Punkt-Biegung, 1300 ℃)

430

Wärmeausdehnung (CTE)

10-6K-1

4.5

Wärmeleitfähigkeit

(W/mK)

300

Semicera Arbeitsplatz
Semicera Arbeitsplatz 2
Ausrüstungsmaschine
CNN-Verarbeitung, chemische Reinigung, CVD-Beschichtung
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