Massive CVD-SILIKONKARBID-Teile gelten als erste Wahl für RTP/EPI-Ringe und -Basen sowie Plasmaätzkavitätsteile, die bei hohen, vom System geforderten Betriebstemperaturen (>1500℃) betrieben werden. Die Anforderungen an die Reinheit sind besonders hoch (>99,9995%) Die Leistung ist besonders gut, wenn die Chemikalienbeständigkeit besonders hoch ist. Diese Materialien enthalten keine Sekundärphasen am Kornrand, sodass ihre Komponenten weniger Partikel produzieren als andere Materialien. Darüber hinaus können diese Komponenten durch die Verwendung von heißem HF/HCl mit geringer Zersetzung gereinigt werden, was zu weniger Partikeln und einer längeren Lebensdauer führt.
