Heizelemente für MOCVD-Substrat

Kurzbeschreibung:

Die Heizelemente von Semicera für MOCVD-Substrate wurden entwickelt, um eine präzise und stabile Temperaturkontrolle in MOCVD-Prozessen (Metal-Organic Chemical Vapour Deposition) zu ermöglichen. Diese aus hochwertigem Graphit gefertigten Heizelemente bieten eine außergewöhnliche Wärmeleitfähigkeit, gleichmäßige Erwärmung und langfristige Zuverlässigkeit. Die Heizelemente von Semicera sind ideal für die Halbleiterfertigung, die LED-Produktion und fortschrittliche Materialanwendungen und sorgen für eine konstante Leistung und optimieren Ihren MOCVD-Substratprozess für maximale Effizienz und Qualität.


Produktdetails

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Hauptmerkmale der Graphitheizung:

1. Gleichmäßigkeit der Heizstruktur.

2. gute elektrische Leitfähigkeit und hohe elektrische Belastung.

3. Korrosionsbeständigkeit.

4. Unoxidierbarkeit.

5. hohe chemische Reinheit.

6. hohe mechanische Festigkeit.

Der Vorteil ist energieeffizient, hochwertig und wartungsarm. Wir können Antioxidations- und langlebige Graphittiegel, Graphitformen und alle Teile von Graphitheizgeräten herstellen.

MOCVD-Substratheizer-Heizelemente-für-MOCVD3-300x300

Hauptparameter der Graphitheizung

Technische Spezifikation

Semicera-M3

Schüttdichte (g/cm3)

≥1,85

Aschegehalt (PPM)

≤500

Shore-Härte

≥45

Spezifischer Widerstand (μ.Ω.m)

≤12

Biegefestigkeit (Mpa)

≥40

Druckfestigkeit (Mpa)

≥70

Max. Korngröße (μm)

≤43

Wärmeausdehnungskoeffizient Mm/°C

≤4,4*10-6

MOCVD-Substratheizung_ Heizelemente für MOCVD
Semicera Arbeitsplatz
Semicera Arbeitsplatz 2
Ausrüstungsmaschine
CNN-Verarbeitung, chemische Reinigung, CVD-Beschichtung
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