Unser Unternehmen bietetSiC-BeschichtungProzessdienstleistungen auf der Oberfläche von Graphit, Keramik und anderen Materialien durch CVD-Methode, so dass spezielle Gase, die Kohlenstoff und Silizium enthalten, bei hoher Temperatur reagieren können, um hochreine Sic-Moleküle zu erhalten, die auf der Oberfläche beschichteter Materialien abgeschieden werden können, um eine zu bildenSiC-Schutzschichtfür Hypnose vom Fasstyp.
Hauptmerkmale:
1. Hochreiner SiC-beschichteter Graphit
2. Überlegene Hitzebeständigkeit und thermische Gleichmäßigkeit
3. GutSiC-kristallbeschichtetfür eine glatte Oberfläche
4. Hohe Beständigkeit gegen chemische Reinigung
![Induktiv beheiztes Epitaxie-Reaktorsystem (LPE).](http://cdn.globalso.com/semi-cera/SiC-Coated-Barrel-5.png)
Hauptspezifikationen vonCVD-SIC-Beschichtung
SiC-CVD-Eigenschaften | ||
Kristallstruktur | FCC-β-Phase | |
Dichte | g/cm³ | 3.21 |
Härte | Vickershärte | 2500 |
Körnung | μm | 2~10 |
Chemische Reinheit | % | 99,99995 |
Wärmekapazität | J·kg-1 ·K-1 | 640 |
Sublimationstemperatur | ℃ | 2700 |
Biegekraft | MPa (RT 4-Punkt) | 415 |
Elastizitätsmodul | Gpa (4-Punkt-Biegung, 1300 ℃) | 430 |
Wärmeausdehnung (CTE) | 10-6K-1 | 4.5 |
Wärmeleitfähigkeit | (W/mK) | 300 |
![2--cvd-sic-purity---99-99995-_60366](http://cdn.globalso.com/semi-cera/2-cvd-sic-purity-99-99995-_60366.jpg)
![5----sic-crystal_242127](http://cdn.globalso.com/semi-cera/5-sic-crystal_242127.jpg)
![Semicera Arbeitsplatz](http://www.semi-cera.com/uploads/Semicera-Work-place2.jpg)
![Semicera Arbeitsplatz 2](http://www.semi-cera.com/uploads/Semicera-work-place-22.jpg)
![Ausrüstungsmaschine](http://www.semi-cera.com/uploads/Equipment-machine2.jpg)
![CNN-Verarbeitung, chemische Reinigung, CVD-Beschichtung](http://www.semi-cera.com/uploads/CNN-processing-chemical-cleaning-CVD-coating2.jpg)
![Unser Service](http://www.semi-cera.com/uploads/Our-service3.jpg)