2~6 Zoll 4° Off-Winkel P-Typ 4H-SiC-Substrat

Kurzbeschreibung:

„4H-SiC-Substrat vom P-Typ mit 4° Abweichung“ ist ein spezielles Halbleitermaterial, wobei sich „4° Abweichung“ auf den Kristallorientierungswinkel des Wafers mit einem Abweichungswinkel von 4 Grad und „P-Typ“ bezieht der Leitfähigkeitstyp des Halbleiters. Dieses Material hat wichtige Anwendungen in der Halbleiterindustrie, insbesondere in den Bereichen Leistungselektronik und Hochfrequenzelektronik.


Produktdetails

Produkt-Tags

Die 2 bis 6 Zoll großen 4H-SiC-Substrate vom P-Typ mit 4°-Winkel wurden entwickelt, um den wachsenden Anforderungen von Herstellern von Hochleistungs-Leistungs- und HF-Geräten gerecht zu werden. Die um 4° abweichende Ausrichtung gewährleistet ein optimiertes epitaktisches Wachstum und macht dieses Substrat zu einer idealen Grundlage für eine Reihe von Halbleiterbauelementen, einschließlich MOSFETs, IGBTs und Dioden.

Dieses 2 bis 6 Zoll große 4H-SiC-Substrat vom P-Typ mit einem Winkel von 4° verfügt über hervorragende Materialeigenschaften, einschließlich hoher Wärmeleitfähigkeit, ausgezeichneter elektrischer Leistung und hervorragender mechanischer Stabilität. Die schräge Ausrichtung trägt dazu bei, die Mikroröhrendichte zu reduzieren und glattere Epitaxieschichten zu fördern, was für die Verbesserung der Leistung und Zuverlässigkeit des endgültigen Halbleiterbauelements von entscheidender Bedeutung ist.

Semiceras 2~6 Zoll 4° Off-Winkel P-Typ 4H-SiC-Substrate sind in verschiedenen Durchmessern von 2 Zoll bis 6 Zoll erhältlich, um unterschiedlichen Fertigungsanforderungen gerecht zu werden. Unsere Substrate sind präzise konstruiert, um gleichmäßige Dotierungsniveaus und hochwertige Oberflächeneigenschaften zu gewährleisten und sicherzustellen, dass jeder Wafer die strengen Spezifikationen erfüllt, die für fortschrittliche elektronische Anwendungen erforderlich sind.

Das Engagement von Semicera für Innovation und Qualität gewährleistet, dass unsere 2–6 Zoll großen 4H-SiC-Substrate vom P-Typ mit einem Winkel von 4° eine konstante Leistung in einer Vielzahl von Anwendungen liefern, von der Leistungselektronik bis hin zu Hochfrequenzgeräten. Dieses Produkt bietet eine zuverlässige Lösung für die nächste Generation energieeffizienter Hochleistungshalbleiter und unterstützt technologische Fortschritte in Branchen wie Automobil, Telekommunikation und erneuerbare Energien.

Größenbezogene Standards

Größe

2 Zoll

4 Zoll

Durchmesser 50,8 mm ± 0,38 mm 100,0 mm+0/-0,5 mm
Oberflächenorientierung 4° in Richtung <11-20> ±0,5° 4° in Richtung <11-20> ±0,5°
Primäre flache Länge 16,0 mm ± 1,5 mm 32,5 mm ± 2 mm
Sekundäre flache Länge 8,0 mm ± 1,5 mm 18,0 mm ± 2 mm
Primäre flache Ausrichtung Parallel zu <11-20>±5,0° Parallel zu<11-20>±5,0c
Sekundäre flache Ausrichtung 90°CW von der Primärseite ± 5,0°, Siliziumseite nach oben 90°CW von der Primärseite ± 5,0°, Siliziumseite nach oben
Oberflächenbeschaffenheit C-Fläche: Optische Politur, Si-Fläche: CMP C-Fläche: Optischpoliert, Si-Fläche: CMP
Waferkante Abschrägung Abschrägung
Oberflächenrauheit Si-Oberfläche Ra<0,2 nm Si-Oberfläche Ra<0,2 nm
Dicke 350,0 ± 25,0 um 350,0 ± 25,0 um
Polytypie 4H 4H
Doping p-Typ p-Typ

Größenbezogene Standards

Größe

6 Zoll
Durchmesser 150,0 mm+0/-0,2 mm
Oberflächenorientierung 4° in Richtung <11-20> ±0,5°
Primäre flache Länge 47,5 mm ± 1,5 mm
Sekundäre flache Länge Keiner
Primäre flache Ausrichtung Parallel zu <11-20>±5,0°
Sekundäre flache Ausrichtung 90°CW von der Primärseite ± 5,0°, Silikonseite nach oben
Oberflächenbeschaffenheit C-Fläche: Optische Politur, Si-Fläche: CMP
Waferkante Abschrägung
Oberflächenrauheit Si-Oberfläche Ra<0,2 nm
Dicke 350,0 ± 25,0 μm
Polytypie 4H
Doping p-Typ

Raman

2–6 Zoll 4° Off-Winkel P-Typ 4H-SiC-Substrat-3

Schaukelnde Kurve

2–6 Zoll 4° Off-Winkel P-Typ 4H-SiC-Substrat-4

Versetzungsdichte (KOH-Ätzung)

2–6 Zoll 4° Off-Winkel P-Typ 4H-SiC-Substrat-5

KOH-Radierungsbilder

2-6 Zoll 4° Off-Winkel P-Typ 4H-SiC-Substrat-6
SiC-Wafer

  • Vorherige:
  • Nächste: