Graphitheizungs-Heißzone/Graphit-Heißfeld, kann individuell angepasst werden

Graphit-Heizzone/Graphit-Heißfeld, kann individuell angepasst werden. Ausgewähltes Bild

Kurze Beschreibung:

WeiTai Energy Technology Co., Ltd. ist ein führender Anbieter von fortschrittlicher Halbleiterkeramik und der einzige Hersteller in China, der gleichzeitig hochreine Siliziumkarbidkeramik (insbesondere die) liefern kannUmkristallisiert SiC) und CVD-SiC-Beschichtung.Darüber hinaus engagiert sich unser Unternehmen auch in Keramikbereichen wie Aluminiumoxid, Aluminiumnitrid, Zirkonoxid und Siliziumnitrid usw.

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Produktdetail

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Hauptmerkmale der Graphitheizung:

1. Gleichmäßigkeit der Heizstruktur.

2. gute elektrische Leitfähigkeit und hohe elektrische Belastung.

3. Korrosionsbeständigkeit.

4. Unoxidierbarkeit.

5. hohe chemische Reinheit.

6. hohe mechanische Festigkeit.

Der Vorteil ist energieeffizient, hochwertig und wartungsarm.Wir können Antioxidations- und langlebige Graphittiegel, Graphitformen und alle Teile von Graphitheizgeräten herstellen.

Hauptparameter der Graphitheizung

Technische Spezifikation	Semicera-M3
Schüttdichte (g/cm3)	≥1,85
Aschegehalt (PPM)	≤500
Shore-Härte	≥45
Spezifischer Widerstand (μ.Ω.m)	≤12
Biegefestigkeit (Mpa)	≥40
Druckfestigkeit (Mpa)	≥70
Max.Korngröße (μm)	≤43
Wärmeausdehnungskoeffizient Mm/°C	≤4,4*10-6