Einführung des Waferträgers
PRODUKTKATAGORIE
▶Wafer-Trägersystem für den PECVD- und TALOX-Prozess
• PECVD- und TALOX-Graphitboot (M4~M12)
• Vertikales SM-Boot (M4, M6)
• Implantat- und Duschgraphitteil (M4~M6)
• C/C-Tablett und Keramikbeschichtung
• RIE-Tablett aus Metall und Keramikbeschichtung
• Vakuumdichtung: O-Ring und Quadratring
▶Texturierungs- und Nassätz-Transferprozess
• LSC H-Träger oder Kassette (M4~M12)
• LSC V-Träger oder Kassette (M4~M12)
• ASC-Träger oder Kassette (M4, M6)
• W/F-Träger und Aufbewahrungsbox (M4~M12)
• Transportrad-(Rollen-)Serie
▶Solarzellenträger und Metallträger
• TRC-Träger oder Kassette (M4~M12)
• Magazin (mit GÜRTEL)
GRAPHITBOOT (H-Typ)
19P6-216CT (WF M4~M12)
GRAPHITBOOT (H-Typ)
21P6-240CT WF M4~M12)
GRAPHITBOOT (H-Typ)
23P7-308CT (W/F M4~M12)
GRAPHITBOOT (H-Typ)
22P/7-294TP (W/F M4~M12)
GRAPHITBOOT (H-Typ)
W182-22P7-294CT (W/F M12)
W182-21P6-240CT (W/F M12)
WF-TRÄGER- UND AUFBEWAHRUNGSBOX (~M12)
C/C-FACH oder TRÄGER (M4~M10)
C/C-FACH oder TRÄGER (M4~M10)
VERTIKALBOOT (SM) M6
LSC-H-TRÄGER(~M12)
LSC-V-TRÄGER(~M12)
ASC-TRÄGER (~M6)
TRC-TRÄGER (~M12)
TRC-TRÄGER (~M12)
GRAPHIT-BOOT(M12)
Waferträgersystem für den PECVD-Prozess
▶ GRAPHITBOOT (CT-entworfen) M10/M12-Prozess
• SPEZIELLES DESIGNKONZEPT
▶ GRAPHITBOOT (CT-entworfen) M4/M6-Prozess
▶ BOOT-Zubehörteile
▶ VERTIKALES BOOT – 161,7 mm WAFER
▶ VERTIKALES BOOT – 166 mm WAFER
▶ VERTIKALES BOOT – 161,7 mm, 166 mm WAFER
Solarzellenträger und Metall-TRC-Träger
TYP: Automatisierung
WAFERGRÖSSE: ① 156 × 156 mm ② 156,75 × 156,75 mm
③161,7x161,7MM ④166x166MM
⑤ 180×180mm ⑥ 210×210mm
VERWENDUNG: Tragen (Kassette)
KAPAZITÄT: 100 Blatt
TEILUNG: 4,76 mm/5,953 mm/6,35 mm
ABMESSUNG: Ca. 559×220×220MM
Ca. 712×260×260MM
VORTEIL: Atmosphäre
MATERIAL: FLAMME, SEITENSTANGE – Aluminium (eloxiert)
SEITENPLATTE-POM (antistatisch)
Abdeckung der unteren Leiste – EPDM/PU/VITON (ASE)
TRC-METALLTRÄGER (U'SER LINE)
TRC-METALLTRÄGER (U'SER LINE)
TRC-METALLTRÄGER (U'SER LINE)
DUSCHPLATTE & IMPLANTAT, TRÄGER
