Branchennachrichten

  • Erforschung epitaktischer Halbleiterscheiben aus Siliziumkarbid: Leistungsvorteile und Anwendungsaussichten

    Erforschung epitaktischer Halbleiterscheiben aus Siliziumkarbid: Leistungsvorteile und Anwendungsaussichten

    Im heutigen Bereich der elektronischen Technologie spielen Halbleitermaterialien eine entscheidende Rolle. Darunter Siliziumkarbid (SiC) als Halbleitermaterial mit großer Bandlücke und hervorragenden Leistungsvorteilen wie einem hohen elektrischen Durchschlagsfeld, einer hohen Sättigungsgeschwindigkeit und hoher Geschwindigkeit.
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  • Graphit-Hartfilz – innovatives Material, eröffnet eine neue Ära der Wissenschaft und Technologie

    Graphit-Hartfilz – innovatives Material, eröffnet eine neue Ära der Wissenschaft und Technologie

    Da es sich bei Graphit-Hartfilz um ein neues Material handelt, ist der Herstellungsprozess recht einzigartig. Während des Misch- und Verfilzungsprozesses interagieren Graphenfasern und Glasfasern und bilden ein neues Material, das sowohl die hohe elektrische Leitfähigkeit als auch die hohe Festigkeit von Graphen beibehält und ...
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  • Was ist ein Halbleiter-Siliziumkarbid-Wafer (SiC)?

    Was ist ein Halbleiter-Siliziumkarbid-Wafer (SiC)?

    Halbleiter-Siliziumkarbid-Wafer (SiC). Dieses neue Material ist in den letzten Jahren nach und nach entstanden und hat mit seinen einzigartigen physikalischen und chemischen Eigenschaften der Halbleiterindustrie neue Dynamik verliehen. SiC-Wafer, die Einkristalle als Rohstoff verwenden, werden sorgfältig g...
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  • Herstellungsverfahren für Siliziumkarbid-Wafer

    Herstellungsverfahren für Siliziumkarbid-Wafer

    Siliziumkarbid-Wafer werden aus hochreinem Siliziumpulver und hochreinem Kohlenstoffpulver als Rohstoffe hergestellt, und Siliziumkarbid-Kristalle werden durch die physikalische Dampfübertragungsmethode (PVT) gezüchtet und zu Siliziumkarbid-Wafern verarbeitet. ① Rohstoffsynthese. Hochreines Silicium...
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  • Siliziumkarbid-Beschichtung: der neue Liebling der Halbleiterindustrie

    Siliziumkarbid-Beschichtung: der neue Liebling der Halbleiterindustrie

    Mit der rasanten Entwicklung der Halbleiterindustrie entwickelt sich das neue Material Siliziumkarbid (SiC)-Beschichtung nach und nach zum Starmaterial der Branche. Mit Siliziumkarbid beschichteter Graphit wird häufig in Hochtemperatur-/Hochspannungs-Halbleiterelektronikprodukten verwendet ...
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  • Siliziumkarbid-Beschichtungen: Neue Durchbrüche in der Materialwissenschaft

    Siliziumkarbid-Beschichtungen: Neue Durchbrüche in der Materialwissenschaft

    Mit der Entwicklung von Wissenschaft und Technologie verändert das neue Material Siliziumkarbidbeschichtung nach und nach unser Leben. Diese Beschichtung, die auf der Oberfläche von Teilen durch physikalische oder chemische Gasphasenabscheidung, Sprühen und andere Methoden hergestellt wird, hat große Aufmerksamkeit erregt...
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  • SiC-beschichteter Graphitschaft

    SiC-beschichteter Graphitschaft

    Als einer der Kernbestandteile von MOCVD-Geräten ist die Graphitbasis der Träger und Heizkörper des Substrats, der direkt die Gleichmäßigkeit und Reinheit des Filmmaterials bestimmt, sodass sich seine Qualität direkt auf die Vorbereitung der Epitaxieschicht auswirkt. ..
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  • Verfahren zur Herstellung einer Siliziumkarbidbeschichtung

    Verfahren zur Herstellung einer Siliziumkarbidbeschichtung

    Derzeit umfassen die Vorbereitungsmethoden für die SiC-Beschichtung hauptsächlich das Gel-Sol-Verfahren, das Einbettverfahren, das Bürstenbeschichtungsverfahren, das Plasmaspritzverfahren, das chemische Gasreaktionsverfahren (CVR) und das chemische Gasphasenabscheidungsverfahren (CVD). Einbettungsmethode: Die Methode ist eine Art Hoch...
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  • Herzlichen Glückwunsch an unseren (Semicera), Partner, SAN 'an Optoelectronics, zum Anstieg des Aktienkurses

    Herzlichen Glückwunsch an unseren (Semicera), Partner, SAN 'an Optoelectronics, zum Anstieg des Aktienkurses

    24. Okt. – Die Aktien von San'an Optoelectronics stiegen heute um bis zu 3,8, nachdem der chinesische Halbleiterhersteller bekannt gab, dass seine Siliziumkarbidfabrik, die das Autochip-Joint-Venture des Unternehmens mit dem Schweizer Technologiegiganten ST Microelectronics beliefern wird, sobald sie fertiggestellt ist. .
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  • Vorsichtsmaßnahmen für die Verwendung von Bauteilen aus Aluminiumoxidkeramik

    Vorsichtsmaßnahmen für die Verwendung von Bauteilen aus Aluminiumoxidkeramik

    In den letzten Jahren wurden Aluminiumoxidkeramiken häufig in High-End-Bereichen wie Instrumentierung, medizinischer Lebensmittelbehandlung, Solarphotovoltaik, mechanischen und elektrischen Geräten, Laserhalbleitern, Erdölmaschinen, der Automobil- und Militärindustrie, der Luft- und Raumfahrtindustrie und anderen Bereichen eingesetzt.
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  • Materialstruktur und Eigenschaften von gesintertem Siliziumkarbid unter Atmosphärendruck

    Materialstruktur und Eigenschaften von gesintertem Siliziumkarbid unter Atmosphärendruck

    【Zusammenfassende Beschreibung】 In modernen C-, N-, B- und anderen nichtoxidischen feuerfesten High-Tech-Rohstoffen ist bei Atmosphärendruck gesintertes Siliziumkarbid umfangreich und wirtschaftlich und kann als Schmirgel oder feuerfester Sand bezeichnet werden. Reines Siliziumkarbid ist ein farbloser, transparenter Kristall.
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  • Herstellungsverfahren für eine Transportvorrichtung für Siliziumkarbid-Ofenrohre

    Herstellungsverfahren für eine Transportvorrichtung für Siliziumkarbid-Ofenrohre

    Siliziumkarbid-Ofenrohre zeichnen sich durch hohe Temperatur, Verschleißfestigkeit, Korrosionsbeständigkeit, hohe Härte, hohe Festigkeit, hohe Wärmeleitfähigkeit, hohe Kälte- und Heißwechselleistung, gute Oxidationsbeständigkeit und andere hervorragende Eigenschaften in einer Vielzahl von Hitzebereichen aus.
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