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  • Was ist ein CVD-beschichtetes Prozessrohr? | Semicera

    Was ist ein CVD-beschichtetes Prozessrohr? | Semicera

    Ein CVD-beschichtetes Prozessrohr ist eine wichtige Komponente, die in verschiedenen Hochtemperatur- und hochreinen Fertigungsumgebungen wie der Halbleiter- und Photovoltaikproduktion eingesetzt wird. Bei Semicera sind wir auf die Herstellung hochwertiger CVD-beschichteter Prozessrohre spezialisiert, die hervorragende ...
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  • Was ist isostatischer Graphit? | Semicera

    Was ist isostatischer Graphit? | Semicera

    Isostatischer Graphit, auch isostatisch geformter Graphit genannt, bezieht sich auf eine Methode, bei der eine Mischung von Rohstoffen in einem System namens kaltisostatisches Pressen (CIP) zu rechteckigen oder runden Blöcken gepresst wird. Kaltisostatisches Pressen ist eine Materialverarbeitungsmethode, die ...
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  • Was ist Tantalcarbid? | Semicera

    Was ist Tantalcarbid? | Semicera

    Tantalcarbid ist ein extrem hartes Keramikmaterial, das für seine außergewöhnlichen Eigenschaften bekannt ist, insbesondere in Umgebungen mit hohen Temperaturen. Bei Semicera sind wir auf die Bereitstellung von Tantalcarbid höchster Qualität spezialisiert, das eine hervorragende Leistung in Branchen bietet, die fortschrittliche Materialien für extreme ... benötigen.
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  • Was ist ein Quarzofenkernrohr? | Semicera

    Was ist ein Quarzofenkernrohr? | Semicera

    Ein Quarzofen-Kernrohr ist eine wesentliche Komponente in verschiedenen Hochtemperatur-Verarbeitungsumgebungen und wird häufig in Branchen wie der Halbleiterfertigung, Metallurgie und chemischen Verarbeitung eingesetzt. Bei Semicera sind wir auf die Herstellung hochwertiger Quarzofenkernrohre spezialisiert, die bekannt sind ...
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  • Trockenätzverfahren

    Trockenätzverfahren

    Der Trockenätzprozess besteht normalerweise aus vier Grundzuständen: vor dem Ätzen, teilweises Ätzen, reines Ätzen und Überätzen. Die Hauptmerkmale sind Ätzrate, Selektivität, kritische Dimension, Gleichmäßigkeit und Endpunkterkennung. Abbildung 1 Vor dem Ätzen Abbildung 2 Teilweises Ätzen Abbildung...
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  • SiC-Paddel in der Halbleiterfertigung

    SiC-Paddel in der Halbleiterfertigung

    Im Bereich der Halbleiterfertigung spielt das SiC-Paddel eine entscheidende Rolle, insbesondere im epitaktischen Wachstumsprozess. Als Schlüsselkomponente für MOCVD-Systeme (Metal Organic Chemical Vapour Deposition) sind SiC-Paddel so konstruiert, dass sie hohen Temperaturen und ... standhalten.
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  • Was ist Wafer Paddle? | Semicera

    Was ist Wafer Paddle? | Semicera

    Ein Waferpaddel ist eine entscheidende Komponente, die in der Halbleiter- und Photovoltaikindustrie zur Handhabung von Wafern bei Hochtemperaturprozessen verwendet wird. Bei Semicera sind wir stolz auf unsere fortschrittlichen Fähigkeiten zur Herstellung hochwertiger Waferpaddel, die den strengen Anforderungen von ... gerecht werden.
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  • Halbleiterprozesse und -ausrüstung (7/7) – Dünnschichtwachstumsprozess und -ausrüstung

    Halbleiterprozesse und -ausrüstung (7/7) – Dünnschichtwachstumsprozess und -ausrüstung

    1. Einleitung Der Prozess des Anbringens von Substanzen (Rohstoffen) an der Oberfläche von Substratmaterialien durch physikalische oder chemische Methoden wird als Dünnschichtwachstum bezeichnet. Nach verschiedenen Arbeitsprinzipien kann die Dünnschichtabscheidung integrierter Schaltkreise unterteilt werden in: - Physikalische Gasphasenabscheidung ( P...
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  • Halbleiterprozesse und -ausrüstung (6/7) – Ionenimplantationsprozess und -ausrüstung

    Halbleiterprozesse und -ausrüstung (6/7) – Ionenimplantationsprozess und -ausrüstung

    1. Einleitung Die Ionenimplantation ist einer der Hauptprozesse bei der Herstellung integrierter Schaltkreise. Es bezieht sich auf den Prozess, einen Ionenstrahl auf eine bestimmte Energie zu beschleunigen (im Allgemeinen im Bereich von keV bis MeV) und ihn dann in die Oberfläche eines festen Materials zu injizieren, um die physikalischen Eigenschaften zu ändern...
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  • Halbleiterprozesse und -ausrüstung (5/7) – Ätzprozess und -ausrüstung

    Halbleiterprozesse und -ausrüstung (5/7) – Ätzprozess und -ausrüstung

    Eine Einführung Das Ätzen im Herstellungsprozess integrierter Schaltkreise ist unterteilt in: Nassätzen und Trockenätzen. In den Anfängen war Nassätzen weit verbreitet, aber aufgrund der Einschränkungen bei der Linienbreitensteuerung und der Richtungsrichtung des Ätzens verwenden die meisten Prozesse nach 3 μm Trockenätzen. Nassätzen ist...
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  • Halbleiterprozesse und -ausrüstung (4/7) – Fotolithographieprozess und -ausrüstung

    Halbleiterprozesse und -ausrüstung (4/7) – Fotolithographieprozess und -ausrüstung

    Ein Überblick Im Herstellungsprozess integrierter Schaltkreise ist die Fotolithographie der Kernprozess, der den Integrationsgrad integrierter Schaltkreise bestimmt. Die Funktion dieses Prozesses besteht darin, die Schaltungsgrafikinformationen von der Maske (auch Maske genannt) originalgetreu zu übertragen und zu übertragen ...
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  • Was ist ein quadratisches Siliziumkarbid-Tablett?

    Was ist ein quadratisches Siliziumkarbid-Tablett?

    Das quadratische Tablett aus Siliziumkarbid ist ein leistungsstarkes Tragewerkzeug, das für die Halbleiterherstellung und -verarbeitung entwickelt wurde. Es wird hauptsächlich zum Transport von Präzisionsmaterialien wie Siliziumwafern und Siliziumkarbidwafern verwendet. Aufgrund der extrem hohen Härte, der hohen Temperaturbeständigkeit und der chemischen ...
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