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Semicera kündigt neue Produktionsstätte für fortschrittliche SiC-, TaC- und PyC-Beschichtungstechnologien an
Neuer Produktionscampus stärkt Fertigungskapazitäten für Halbleitermaterialien für globale Halbleiter- und Hochtemperaturprozessanwendungen NINGBO, China — Mai 2026 — Semicera, ein Hersteller fortschrittlicher Halbleitermaterialien und Beschichtungstechnologien, gibt bekannt…Mehr lesen -
Warum Semicera ein breites Portfolio an Halbleitermaterialien und -komponenten anbietet
Warum Semicera so viele fortschrittliche Halbleiterprodukte anbietet: Die F&E-Maschine hinter der schnellen Industrialisierung. In der Halbleitermaterialindustrie konzentrieren sich viele Anbieter nur auf eine Produktkategorie. Einige spezialisieren sich auf Quarzbauteile. Andere konzentrieren sich ausschließlich auf Graphit, …Mehr lesen -
Mehr als nur Luftdurchsatz: Warum der CFM-Wert allein die Kühlleistung nicht definiert.
In Diskussionen über Wärmemanagement wird der Luftstrom – oft in CFM (Kubikfuß pro Minute) angegeben – häufig als vereinfachtes Maß zur Bewertung der Kühlleistung herangezogen. Die Annahme erscheint intuitiv: Mehr Luftstrom sollte mehr Wärme abführen. In realen technischen Umgebungen ist dies jedoch nicht der Fall.Mehr lesen -
Semicera empfängt japanischen Kunden aus der LED-Industrie zur Präsentation der Produktionslinie
Semicera freut sich, bekanntzugeben, dass wir kürzlich eine Delegation eines führenden japanischen LED-Herstellers zu einer Besichtigung unserer Produktionslinie begrüßen durften. Dieser Besuch unterstreicht die wachsende Partnerschaft zwischen Semicera und der LED-Industrie, da wir weiterhin qualitativ hochwertige Produkte liefern…Mehr lesen -
Die entscheidende Rolle und Anwendungsfälle von SiC-beschichteten Graphitsuszeptoren in der Halbleiterfertigung
Semicera Semiconductor plant, die Produktion von Kernkomponenten für Halbleiterfertigungsanlagen weltweit zu steigern. Bis 2027 soll ein neues, 20.000 Quadratmeter großes Werk mit einer Gesamtinvestition von 70 Millionen US-Dollar errichtet werden. Eine unserer Kernkomponenten ist der Siliziumkarbid-Waferträger (SiC)...Mehr lesen -
Ideales Material für Fokusringe in Plasmaätzanlagen: Siliziumkarbid (SiC)
In Plasmaätzanlagen spielen Keramikkomponenten, insbesondere der Fokusring, eine entscheidende Rolle. Der Fokusring, der um den Wafer angeordnet ist und in direktem Kontakt mit ihm steht, ist unerlässlich, um das Plasma durch Anlegen einer Spannung auf den Wafer zu fokussieren. Dies verbessert die...Mehr lesen -
Wenn glasartiger Kohlenstoff auf Innovation trifft: Semicera führt die Revolution in der Beschichtungstechnologie mit glasartigem Kohlenstoff an.
Glaskohlenstoff, auch bekannt als Glaskohlenstoff oder Vitreous Carbon, vereint die Eigenschaften von Glas und Keramik in einem nicht-graphitischen Kohlenstoffmaterial. Zu den führenden Unternehmen in der Entwicklung fortschrittlicher Glaskohlenstoffmaterialien zählt Semicera, ein führender Hersteller, der sich auf kohlenstoffbasierte Materialien spezialisiert hat.Mehr lesen -
Durchbruch in der Siliziumkarbid-Epitaxie-Technologie: China führt die Entwicklung von Siliziumkarbid-Epitaxiereaktoren an.
Wir freuen uns, einen bahnbrechenden Erfolg unseres Unternehmens im Bereich der Siliziumkarbid-Epitaxietechnologie bekanntzugeben. Unser Werk ist stolz darauf, zu den führenden Herstellern in China zu gehören, die Siliziumkarbid-Epitaxiereaktoren produzieren können. Mit unserem Engagement für höchste Qualität…Mehr lesen -
Neuer Durchbruch: Unser Unternehmen beherrscht die Tantalcarbid-Beschichtungstechnologie zur Verlängerung der Bauteillebensdauer und Steigerung der Ausbeute.
Zhejiang, 20.10.2023 – Unser Unternehmen gibt mit Stolz die erfolgreiche Entwicklung der Tantalcarbid-Beschichtungstechnologie (TaC) bekannt und feiert damit einen bedeutenden technologischen Fortschritt. Diese bahnbrechende Errungenschaft verspricht, die Branche grundlegend zu verändern.Mehr lesen